Турбомолекулярный вакуумный насос, водяное охлаждение, 1400 л/с, двигатель 30000 об/мин (CXF-200/1401CS)

Обеспечивает извлечение воздуха за счет относительно высокоскоростного вращения многоступенчатых динамических и статических турбинных лопаток. Cостоит из турбомолекулярного насоса и дискового тягового насоса.
Двигатель представляет собой трехфазный двигатель с короткозамкнутым ротором из углеродного волокна, оснащенный электромагнитным прецизионным керамическим электромагнитным подшипником. Магнитно-левитирующий подшипник применяется для контроля рабочего положения турбомолекулярного насоса и передачи рабочего положения обратно в блок управления, так что автоматическая компенсация баланса ротора может быть реализована с помощью алгоритма. Нулевое трение во время работы и низкое энергопотребление.
Функция генерации электроэнергии в случае внезапного отключения питания.
Поверхности деталей в камере молекулярного насоса обрабатываются специальным способом, чтобы поверхности могли противостоять коррозии.
Особенности:
скорость откачки: 1400 л/с (N₂), 880 л/с (He), 560 л/с (H₂), 1360 л/с (Ar),
коэффициент сжатия: 10⁸ (N₂), 10⁴ (He), 10³ (H₂), 10⁸ (Ar),
абсолютное давление: 10^-7 (ISO-F),
макс. мгновенный входной поток 1100 см³/мин,
фланец продувочного порта (опционально) KF10,
поток защитного газа 20 см³/мин,
макс. магнитное поле: 3 мТ (радиальное), 15 мТ (осевое),
скорость вращения 30000 об/мин,
время разгона ≤6 мин,
время простоя ≤8 мин,
водяное охлаждение, расход охлаждающей воды 2 л/мин, температура охлаждающей воды 20±5°С,
напряжение 220±10% В, 50 Гц/110±10% В, 60 Гц,
максимальная мощность 1000 Вт,
модель контроллера: CXFD-1000H,
форвакуумный насос 16 л/с,
вес 51 кг (ISO-F),
входной фланец, DN200 ISO-F или DN200 CF, выходной фланец DN40 ISO-KF,
установка под любым углом.
Применение: анализ поверхности, мониторинг плазмы, анализ остаточного газа, литография, PVD (физическое осаждение из паровой фазы), CVD (химическое осаждение из паровой фазы), плазменное травление, имплантация – канал, инспекция, MBE (молекулярно-лучевая эпитаксия), загрузочные шлюзы, передаточные камеры, погрузочно-разгрузочные системы, плоский дисплей (FPD), светодиод / OLED, покрытие жесткого диска, фотовольтаика, стеклянное покрытие (PVD), производство CD/DVD/Blu-ray (PVD), оптическое покрытие (PVD), защита от износа (PVD, CVD), покрытие полотна, медицинские технологии, электронно-лучевая сварка, термическая обработка, вакуумные печи, ядерные исследования, технология термоядерного синтеза, исследование плазмы, ускорители частиц, космическое моделирование, криогенные исследования, физика элементарных частиц, нанотехнологии, биотехнология.